Навигација

ОФ4ТП - Техника плазме

Спецификација предмета
НазивТехника плазме
АкронимОФ4ТП
Студијски програмЕлектротехника и рачунарство
Модулмодул Физичка електроника
Тип студијаосновне академске студије
Наставник (предавач)
Наставник/сарадник (вежбе)
Наставник/сарадник (ДОН)
    Број ЕСПБ6.0Статус предметаизборни
    Условљност другим предметимаПоложен предмет: Физичка електроника гасова и плазме
    Циљеви изучавања предметаУпознавање студената са основним концептима разних техника плазме које користе модерне технологије. Примена стеченог знања о карактеристикама плазме у развоју будућег инжењеринга.
    Исходи учења (стечена знања)Познавање основних принципа депозиције материјала, прављења танких слојева, нагризања материјала у плазма техници. Масовно прављење интегрисаних кола великог степена интеграције. Нанослојеви у плазма техници.
    Садржај предмета
    Садржај теоријске наставеОснове гасних пражњења, извори плазме, Reactive Ion Etcher пражњења, плазма хемија, плазма техника у производњи микроелектронских кола, кинетичка теорија и судари, ECR извори плазме, индуктивно спрегнута плазма, хеликоидално таласни извори плазме, плазма дијагностика
    Садржај практичне наставеПрактичне вежбе, истраживачки рад у лабораторији
    Литература
    1. Reactive Sputter Deposition, Diederik Depla (Editor), Stijn Mahieu (Editor), Springer 2008.
    2. Lecture Notes on Principles of Plasma Processing, Jane P. Chang, Francis F. Chen, Spinger 2003
    Број часова активне наставе недељно током семестра/триместра/године
    ПредавањаВежбеДОНСтудијски и истраживачки радОстали часови
    32
    Методе извођења наставеПредавања, аудиторне вежбе, пројекти
    Оцена знања (максимални број поена 100)
    Предиспитне обавезеПоенаЗавршни испитПоена
    Активности у току предавања0Писмени испит50
    Практична настава0Усмени испит0
    Пројекти10
    Колоквијуми40
    Семинари0